光譜儀(2) 分辨率是檢測(cè)器的問題.對(duì)于 ESI英飛思 的儀器而言,照射面積增大,效果比較好一點(diǎn),比如說 可調(diào)光斑面積的 X 射線系統(tǒng),1MM 光斑的測(cè)試效果比 5MM 的測(cè)試效果差很多。 (3) 照射面積的大小直接影響測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性，在所有測(cè)試條件不變的情況下，測(cè)試面積越大，測(cè)試的強(qiáng)度越高，和分辨率沒有關(guān)系，直接影響分辨率的只有狹縫（準(zhǔn)直器）、晶體和探測(cè)器。

光譜儀(1) 取各種標(biāo)準(zhǔn)樣品來測(cè)試（例如銅合金、鋁合金、PVC、PE 樣品等），每種樣品用相對(duì)應(yīng)的方法來測(cè)試（例如銅合金就用金屬 FP 法來測(cè)試），計(jì)算與標(biāo)準(zhǔn)值之間差距。 每個(gè)樣品測(cè)試 3－5 次，取均值，然后對(duì)比所用的儀器的允許誤差就可以知道是否合格。文件上的誤差范圍只是一個(gè)參考，可以自己選擇一個(gè)對(duì)本公司的誤差范圍作為儀器的標(biāo)準(zhǔn)誤差允許范圍。 (2) 針對(duì) EDXRF 目前有《半導(dǎo)體探測(cè)器 X 射線能譜儀通則》《金屬覆蓋層覆蓋層厚度測(cè)量 X 射線光譜方法》等相關(guān)，另每個(gè)公司和機(jī)構(gòu)內(nèi)部都有自己一套的標(biāo)樣測(cè)試重復(fù)性和穩(wěn)定性要求。ESI英飛思 儀器標(biāo)準(zhǔn)，PE 料 Cd,Pb,Hg,Cr 在 100ppm 時(shí)相對(duì)誤差不得大于 15%，Br，Cl 在 1000ppm 時(shí)相對(duì)誤差不得大于 30% 。

光譜儀(1)由于 XRF 是靠檢測(cè)樣品所發(fā)出的熒光 X 射線來判斷測(cè)試樣品里面的元素含量的，對(duì)于已電鍍樣品，X 射線檢測(cè)結(jié)果多為表層信息，化學(xué)分析多為溶樣后測(cè)定整體，由于基體影響，所以兩個(gè)結(jié)果會(huì)有較大差距。 (3) 如果電鍍層中引入了有害物質(zhì)是地，要進(jìn)行管控采取化學(xué)分析的方法會(huì)比較可靠。