光刻膠膜厚儀的原理主要基于光學(xué)干涉現(xiàn)象。當(dāng)光源發(fā)出特定波長的光波垂直或傾斜照射到光刻膠表面時，部分光波會被反射，部分則會透射進入光刻膠內(nèi)部。在光刻膠的上下表面之間，光波會發(fā)生多次反射和透射，形成干涉現(xiàn)象。這種干涉現(xiàn)象會導(dǎo)致反射光波的相位發(fā)生變化，相位差的大小取決于光刻膠的厚度和折射率。膜厚儀通過精確測量這些反射光波的相位差，并利用特定的算法進行處理，就能夠準(zhǔn)確地計算出光刻膠的膜厚值。在實際應(yīng)用中，光刻膠膜厚儀通常會采用分光處理的方式，收集反射光經(jīng)過分光后的光強度數(shù)據(jù)，并與已知的模型或標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)進行比較，從而得出光刻膠的膜厚值。此外，有些光刻膠膜厚儀還會利用傾斜照射的方法，測量表面反射光的角度分布，進一步提高測量的精度和可靠性。光刻膠膜厚儀具有非接觸式測量的特點，因此在測量過程中不會破壞樣品。同時，由于其測量速度快、精度高，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、生物醫(yī)學(xué)原件、微電子以及液晶顯示器等領(lǐng)域，對于保證產(chǎn)品質(zhì)量和提高生產(chǎn)效率具有重要意義。