光譜儀(1) 用熒光Ｘ射線法算出單位面積的質(zhì)量（目標(biāo)元素的附著量：g/m2）非實(shí)際質(zhì)量。不能檢出鍍層里空隙的存在。用附著量除以目標(biāo)元素的密度（g/cm3）換算成厚度（mm）。實(shí)際鍍層密度不同的話，會(huì)產(chǎn)生誤差。 (2)測(cè)厚度可選用無(wú)標(biāo)樣的薄膜 FP 法，也可選用標(biāo)準(zhǔn)曲線法，標(biāo)準(zhǔn)曲線法需要樣品，其標(biāo)稱值好覆蓋產(chǎn)品規(guī)格的上下限。 (3)測(cè)試厚度主要有兩種方法：發(fā)射法和吸收法，前者測(cè)鍍層元素的強(qiáng)度，后者測(cè)基體元素的強(qiáng)度。

光譜儀(2) 分辨率是檢測(cè)器的問(wèn)題.對(duì)于 ESI英飛思 的儀器而言,照射面積增大,效果比較好一點(diǎn),比如說(shuō) 可調(diào)光斑面積的 X 射線系統(tǒng),1MM 光斑的測(cè)試效果比 5MM 的測(cè)試效果差很多。 (3) 照射面積的大小直接影響測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性，在所有測(cè)試條件不變的情況下，測(cè)試面積越大，測(cè)試的強(qiáng)度越高，和分辨率沒(méi)有關(guān)系，直接影響分辨率的只有狹縫（準(zhǔn)直器）、晶體和探測(cè)器。

光譜儀(1)由于 XRF 是靠檢測(cè)樣品所發(fā)出的熒光 X 射線來(lái)判斷測(cè)試樣品里面的元素含量的，對(duì)于已電鍍樣品，X 射線檢測(cè)結(jié)果多為表層信息，化學(xué)分析多為溶樣后測(cè)定整體，由于基體影響，所以兩個(gè)結(jié)果會(huì)有較大差距。 (3) 如果電鍍層中引入了有害物質(zhì)是地，要進(jìn)行管控采取化學(xué)分析的方法會(huì)比較可靠。