二氧化硅膜厚測(cè)試儀主要采用的是光學(xué)干涉測(cè)量原理。具體來(lái)說(shuō)，當(dāng)單色光垂直照射到二氧化硅膜層表面時(shí)，光波會(huì)在膜的表面以及膜與基底的界面處發(fā)生反射。這些反射光波之間會(huì)產(chǎn)生干涉現(xiàn)象，即光波疊加時(shí)，其強(qiáng)度會(huì)增強(qiáng)或減弱，取決于光波的相位差。在測(cè)量過(guò)程中，當(dāng)兩束反射光的光程差是半波長(zhǎng)的偶數(shù)倍時(shí)，會(huì)出現(xiàn)亮條紋；而當(dāng)光程差是半波長(zhǎng)的奇數(shù)倍時(shí)，則會(huì)出現(xiàn)暗條紋。膜厚儀會(huì)記錄這些干涉條紋的數(shù)量，并結(jié)合入射光的波長(zhǎng)和二氧化硅的折射系數(shù)，利用光的干涉公式來(lái)計(jì)算得到二氧化硅膜的厚度。此外，二氧?枘ず癲饈砸塹牟飭烤群芨擼蛭繕嬉鞘怯霉獠ǖ牟ǔのノ煥床獾霉獬灘畹模勻魏撾⑿〉墓獬灘畋浠薊岷芰槊艫匾鷥繕嫣蹺頻鈉?。这种偏移可覇T瘓凡飭?，磦蝤实现哆h(yuǎn)躉枘ず穸鵲木凡飭俊?/p>綜上所述，二氧化硅膜厚測(cè)試儀通過(guò)利用光學(xué)干涉測(cè)量原理，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)二氧化硅膜厚度的精確、快速測(cè)量，為相關(guān)領(lǐng)域的科研和工業(yè)生產(chǎn)提供了重要的技術(shù)支?幀?/p>