光學(xué)干涉測厚儀是一種利用光學(xué)干涉原理進行薄膜材料厚度測量的高精度儀器。其測量范圍因具體型號和規(guī)格的不同而有所差異。一般來說，光學(xué)干涉測厚儀的測量范圍可以從納米級別到微米級別，甚至更大。例如，有些設(shè)備能夠測量的厚度范圍可能在1納米到3000微米之間，而有些則可能專注于更小的測量范圍，如0.1微米到100微米。這些設(shè)備的測量精度也相當(dāng)高，可以達到納米級別，如0.01納米或0.01%的理論精度，以及小于0.02納米或0.03%的穩(wěn)定精度。此外，光學(xué)干涉測厚儀的特點是非接觸式、無損、精準(zhǔn)且快速，能夠在不破壞樣品的情況下進行厚度測量。它可應(yīng)用于多種領(lǐng)域，如光學(xué)膜涂布、太陽能晶圓、超薄玻璃、膠帶、Mylar膜、OCA光學(xué)膠、光阻等的測量，也可用于測量手機觸摸屏ITO等鍍膜厚度、PET柔性涂布的膠厚等厚度、LED鍍膜厚度，建筑玻璃鍍膜厚度等。另外，一些先進的光學(xué)干涉測厚儀還具有構(gòu)建材料結(jié)構(gòu)的拓展功能，可以對單/多層薄膜數(shù)據(jù)進行擬合分析，對薄膜材料進行預(yù)選模擬設(shè)計，結(jié)果可以以2D或3D的形式顯示。總的來說，光學(xué)干涉測厚儀的測量范圍廣泛，精度高，能夠應(yīng)用于各種薄膜材料的厚度測量。然而，具體能夠測量的厚度范圍還需根據(jù)設(shè)備的具體型號和規(guī)格來確定，因此在實際應(yīng)用中，需要根據(jù)測量需求選擇合適的設(shè)備。