




鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標準的起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。,單道掃描ICP光譜儀價格,上市公司,品質之選!
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Plasma 2000 技術特點
1. ?優(yōu)異的光學系統(tǒng)
2. ?固態(tài)有效射頻發(fā)生器,體積更加小巧
3. ?流程自動化,狀態(tài)監(jiān)控及自動保護
4. ?科研級檢測器,極高的紫外量化效率
5. ?強大分析譜線
6. ?信息直觀豐富
7. ?多窗口多方法
8. ?編輯功能強大
9. ?智能譜圖標定
10. 智能干擾矯正
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鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)
1. 光學系統(tǒng):中階梯二維分光光學系統(tǒng),焦距400mm
2. 譜線范圍:165nm~900nm,光學分辨率:0.007nm(200nm處)
3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限
6. 自動匹配調節(jié)
7. 全組裝式炬管,降低了維護成本
8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵,具有快速清洗功能
9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD
≤2.0%(大于3小時)


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