在鉑族金屬的應用中,光學玻璃行業(yè)是鉑的重要的應用領域,鉑是制造熔制光學玻璃的坩堝和攪拌器的必選材料,由于光學玻璃的特殊性,提出了對坩堝和攪拌器的更苛刻的適用要求,早在八十年代初期,國內(nèi)就有人提出了用彌散強化鉑來制作坩堝和攪拌器。

21世紀展現(xiàn)良好發(fā)展前景的納米技術,貴金屬由于它們的優(yōu)異的物理化學性能,資源的稀缺性以及在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)領域的不斷擴大應用和在未知領域的不斷開拓探索,純銀靶材回收,成為納米技術早和相當重要的研究對象之一。






在所有應用產(chǎn)業(yè)中,吉林純銀靶材,半導體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來.而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒,純銀靶材工藝,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認為是影響薄膜沉積率的關鍵因素。另外,薄膜的純度與靶材的純度關系極大,過99.995%(4N5)純度的銅靶,或許能夠滿足半導體廠商0.35pm工藝的需求,但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。

超純金屬,指的化學雜質(zhì)和物理雜質(zhì) (晶體缺陷) 含量的金屬。目前主要以化學雜質(zhì)的含量為標準,常以雜質(zhì)在金屬中總含 量的百萬分之幾表示 。超純金屬是相對高純度的金屬,一般指金屬純度達到純度9以上的金屬,物理雜質(zhì)的概念才是有意義的。

材料的純度對其性能,特別是微電子學、光電子學性能影響很大,現(xiàn)代高技術產(chǎn)業(yè)要求制備出超純金屬以利于制作器件。
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