潔凈室中的溫濕度控制:
潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定,但在滿足工藝要求的條件下,應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。
具體工藝對溫度的要求以后還要列舉,但作為總的原則看,由于加工精度越來越精細,所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,同時要求濕度值一般較低,因為人出汗以后,對產(chǎn)品將有污染,特別是怕鈉的半導體車間,這種車間不宜超過25度。
濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時,冷卻水管壁上會結露,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外,濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)蕞佳溫度范圍為35—45%。










凈化車間主要的作用是什么?:
凈化車間主要之作用在于控制產(chǎn)品(如硅芯片等)所接觸的大氣的潔凈度以及溫濕度,使產(chǎn)品能在一個良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造,此空間我們稱之為凈化車間。按照國際慣例,無塵凈化級別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數(shù)量來規(guī)定。也就是說所謂無塵并非沒有一點灰塵,而是控制在一個非常微量的單位上。


GMP車間凈化公司建設車間的基本原則:
1、不產(chǎn)生:不在車間產(chǎn)生任何灰塵,必須確保以下條件: A、GMP車間凈化公司體型人員應穿潔凈服方可進入車間 B、不使用容易產(chǎn)生灰塵的材料與設備?! 、不進行不必要的移動?! 、不帶入無用品。
2、快速去除:快速去除車間內(nèi)灰塵,廠房動力電施工,必須做到以下幾點: A、增加換氣率?! 、在靠近產(chǎn)生灰塵的地方設置排氣裝置?! 、采用合適的氣流形式以避免灰塵粘在產(chǎn)品上
潔凈室是指將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微粒子、有害空氣、菌等之污染物排除,并將室內(nèi)之溫度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi),而所給予特別設計之房間。亦即是不論外在之空氣條件如何變化,其室內(nèi)均能俱有維持原先所設定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。



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