多品種、小批量特點(diǎn)，如何控制質(zhì)量？鋼研納克：部件模塊化、標(biāo)準(zhǔn)化

從新產(chǎn)品的研發(fā)開始，設(shè)計(jì)方案就要經(jīng)過(guò)公司的可靠性的論證和評(píng)審。如，設(shè)計(jì)上是怎樣去避免局部過(guò)熱、振動(dòng)等。可靠性是兩年前成立，鋼研納克近推出的CCD6000、全譜ICP-OES、鎘大米檢測(cè)儀器都是從設(shè)計(jì)開始就經(jīng)過(guò)該的評(píng)審。而對(duì)于750和1000型火花直讀光譜則是重新經(jīng)過(guò)評(píng)估、并改進(jìn)。

中試階段則需要對(duì)外通過(guò)電子部5所的可靠性試驗(yàn)。鋼研納克與電子部5所達(dá)成了戰(zhàn)略合作協(xié)議參照國(guó)軍標(biāo)的方法驗(yàn)證儀器的可靠性和故障情況。如，模擬環(huán)境條件進(jìn)行電磁干擾、高低溫循環(huán)、濕度、振動(dòng)等試驗(yàn)，進(jìn)而指導(dǎo)改進(jìn)提高產(chǎn)品的可靠性?！坝捎趯?shí)行了可靠性試驗(yàn)，電路板等器件經(jīng)過(guò)了改進(jìn)，儀器的故障率有所下降，”鋼研納克北京儀器分公司總經(jīng)理袁良經(jīng)說(shuō)到，“經(jīng)過(guò)了發(fā)現(xiàn)問(wèn)題、解決問(wèn)題的中試階段，之后才有可能投入生產(chǎn)?！?/p>

由于光電直讀光譜儀器多品種、小批量的特點(diǎn)，不適合流水線、大批量生產(chǎn)，鋼研納克采取的措施是部件盡可能模塊化、標(biāo)準(zhǔn)化，一些模塊可以在750型、1000型上通用。其次，在內(nèi)部過(guò)程工藝上嚴(yán)格要求，下道工序要對(duì)上道工序進(jìn)行檢查，通過(guò)了才能轉(zhuǎn)到下一道工序。另外，對(duì)于光電直讀光譜儀器來(lái)說(shuō)，一般出廠前成品檢驗(yàn)組測(cè)試1-2個(gè)月的時(shí)間，在這個(gè)環(huán)節(jié)大部分隱患都可能暴露出來(lái)，相應(yīng)的也給了工廠時(shí)間和機(jī)會(huì)去解決問(wèn)題。

鋼研納克直讀光譜儀，業(yè)界產(chǎn)品，中國(guó)直讀光譜儀者！源于中國(guó)冶金行業(yè)科研機(jī)構(gòu)鋼鐵研究總院，具有70年金屬分析檢測(cè)經(jīng)驗(yàn)，金屬檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)制定者。20年直讀光譜儀制造歷史，做更的光譜儀！直讀光譜儀GB/T4336起草單位，，上市公司，品質(zhì)服務(wù)優(yōu)選！

直讀光譜儀可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè)，在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用?？捎糜?Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。

如R表示強(qiáng)度比即

R=I1/I0

I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，臺(tái)式光譜儀價(jià)格，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。

在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。

光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。

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