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等離子拋光機的是通過 “電場強化 + 等離子體化學反應(yīng)” 實現(xiàn)表面整平,具體過程可分為 3 個關(guān)鍵階段:
電解質(zhì)活化:將納米級拋光液(多為弱堿性或中性)溶于水,通入直流電后,拋光液在工件(陽極)與電極(陰極)之間形成穩(wěn)定的 “電解液 - 蒸氣 - 氣體” 三層界面,其中蒸氣層是反應(yīng)載體。
等離子體生成:當電壓達到臨界值(通常 100-300V),工件表面微觀凸起處的電場強度被強化(放電效應(yīng)),蒸氣層中的水分子、離子被激發(fā)為低溫等離子體,具備強化學活性。
可控反應(yīng)拋光:等離子體與工件表面發(fā)生 “氧化 - 侵蝕” 協(xié)同反應(yīng) —— 微觀凸起處優(yōu)先被氧化形成薄層氧化膜,隨后氧化膜被拋光液快速侵蝕;而凹陷處反應(yīng)速率較慢,終實現(xiàn) “削峰填谷” 的整平效果,同時在表面形成均勻鈍化膜,提升耐腐蝕性。
整個過程無機械接觸,避免了傳統(tǒng)機械拋光(如砂輪、布輪)導致的工件變形、劃痕殘留等問題。


等離子電漿拋光機原理等離子電漿拋光(PlasmaElectrolyticPolishing,PEP)是一種利用低壓氣體放電產(chǎn)生的等離子體(電漿)對金屬工件表面進行高精度、非接觸式光整處理的技術(shù)。其原理在于創(chuàng)造并控制一個高度活躍的等離子體環(huán)境,實現(xiàn)原子級的材料去除。設(shè)備工作時,工件作為陽極置于真空腔室中。腔室抽真空后充入特定工藝氣體(如氣、氫氣或混合氣)。在高頻電場(或直流疊加脈沖)作用下,氣體分子被電離,形成包含大量自由電子、離子、激發(fā)態(tài)原子/分子的等離子體“電漿”。這些高能粒子在電場驅(qū)動下高速轟擊工件表面,其能量足以打斷金屬原子間的化學鍵。表面微觀凸起處因電場集中而優(yōu)先受到活性粒子的轟擊和化學反應(yīng)(如與氫氣反應(yīng)形成揮發(fā)性氫化物)。此過程實現(xiàn)了選擇性、均勻的原子級材料去除(蝕刻),而非機械切削。同時,等離子體中的活性成分還能有效清除表面吸附雜質(zhì)和微小氧化層。整個過程在較低溫度(通常遠低于金屬熔點)和控制下進行,避免了熱變形和機械應(yīng)力,終獲得超光滑(可達Ra---原理總結(jié):通過低壓氣體放電產(chǎn)生高能等離子體(電漿),利用其中活性粒子對金屬表面凸起處進行選擇性、原子級的蝕刻與化學活化去除,實現(xiàn)超精密、無應(yīng)力的拋光效果。

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