背靶的選擇
對(duì)材質(zhì)的要求:一般選用無氧銅和鉬靶,厚度在3mm左右
導(dǎo)電性好:常用無氧銅,無氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好;
強(qiáng)度足夠:太薄,易變形,2N金靶材哪家好,不易真空密封。
結(jié)構(gòu)要求:空心或者實(shí)心結(jié)構(gòu);
厚度適中:3mm左右,太厚,消耗部分磁強(qiáng);太薄,容易變形。
銦焊綁定的流程
1.綁定前的靶材和背板表面預(yù)處理
2.將靶材和背板放置在釬焊臺(tái)上,北京2N金靶材,升溫到綁定溫度
3.做靶材和背板金屬化
4.粘接靶材和背板







采用連續(xù)式硫化法的情況下,不會(huì)有因切去加壓成形產(chǎn)生的毛邊或一般的擠壓處理和在硫化處理槽內(nèi)進(jìn)行處理時(shí)橡膠管兩端翹起的部分而導(dǎo)致的橡膠浪費(fèi),2N金靶材報(bào)價(jià),另外能夠縮短制造時(shí)間和減少人工費(fèi)用,因此能夠降低輥筒的制造成本,從這些方面考慮,此方法優(yōu)于間歇式硫化法。

此外,硫化處理后,由于對(duì)每個(gè)輥筒都進(jìn)行了剪切,所以基本上不會(huì)出現(xiàn)上述差別,這樣就可緩解長(zhǎng)度方向的電阻值的不均勻。
磁控濺射靶材種類:金屬濺射鍍膜靶材,哪家有2N金靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材,硅化物陶瓷濺射靶材,硫化物陶瓷濺射靶材,碲化物陶瓷濺射靶材,其他陶瓷靶材,摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP),鉛靶材(PbAs),銦靶材(InAs)。


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